Globalni ekološki propisi industrije poluvodiča kontinuirano se pooštravaju 2026., a ograničenja za tvari klase PFAS postupno pokrivaju potrošne materijale koji se koriste unutar tvornica ploča, uključujući CMP jastučiće za poliranje. Tradicionalni vrhunski CMP jastučići djelomično usvajaju komponente modificirane fluorom kako bi se poboljšala otpornost na kemijske gnojnice i učinak vlaženja površine. Suočeni s regulatornim trendom, programeri CMP jastučića namijenjenih GaN-u moraju redizajnirati poliuretanske formule bez žrtvovanja učinka poliranja za tvrde GaN podloge.
GaN CMP procesi često koriste kašu za poliranje sa složenim pH okruženjem i abrazivnim česticama nano veličine. Bez aditiva modificiranih fluorom, poliuretanski materijali jastučića suočavaju se s većim rizikom od kemijske erozije, začepljenja pora i starenja površine tijekom rada. Inženjeri materijala moraju prilagoditi omjer poliol-izocijanata, optimizirati gustoću poprečnih veza i poboljšati sposobnost protiv hidrolize i bubrenja same poliuretanske matrice, kako bi zamijenili dio funkcija koje su izvorno ostvarene sastojcima koji sadrže fluor.
Povratne informacije iz industrije pokazuju da su mnogi dobavljači jastučića još uvijek u fazi testiranja uzoraka GaN CMP proizvoda bez PFAS-a. Trenutačni glavni izazovi leže u balansiranju tri ključna pokazatelja: stopa uklanjanja materijala, sposobnost kontrole nedostataka i vijek trajanja. Neki jastučići bez fluora u ranoj probi pokazuju pristojnu kvalitetu površine u kratkotrajnim laboratorijskim testovima, ali se brzina trošenja očito ubrzava pod kontinuiranim radnim uvjetima, povećavajući ukupne troškove potrošnog materijala po pločici.
Na temelju naše platforme za istraživanje i razvoj poliuretana, razvili smo modificirane vrste poliuretanskih materijala usmjerene na proizvodnju GaN CMP jastučića bez PFAS-a. Prilagodbom strukture polimerne okosnice, poboljšavamo kemijsku stabilnost bez dodataka fluora. Daljnji partneri mogu dalje uskladiti proces stvaranja pora prema vlastitom dizajnu jastučića. Nastavit ćemo surađivati s programerima potrošnog materijala kako bismo dovršili zajedničku verifikaciju i pogurali naprijed industrijsku primjenu ekološki prihvatljivih poliuretanskih rješenja za planarizaciju GaN pločica sljedeće generacije.